研磨平板用于量具的制造、修理, 制件研磨,高機(jī)械件制作,光學(xué)儀器的加工。
研磨平板(研磨平臺(tái))規(guī)格:
100*200. 200*200. 250*250. 300*300. 400*400
研磨平板(研磨平臺(tái))特性:
1.操作簡(jiǎn)單,上砂快,嵌砂量足,使用后仍十分容易上同類(lèi)型砂,經(jīng)過(guò)打磨后,光潔度顯著.
2.容易得到量塊所需的較高光潔度和研合性,工件鏡面青亮.
3.平板耐用,切削足而,輕度導(dǎo)砂后仍有良好的切削性,推研時(shí)感覺(jué)流暢.
研磨的效率:
研磨的效率通常隨著研磨的速度的增加而增加。因?yàn)樵趩挝粫r(shí)間內(nèi),工件表面通過(guò)的磨粒的數(shù)量增加了,而在單位滑動(dòng)路程的磨削量幾乎接近常數(shù),所以研磨速度的增加,也等于增加切下金屬切削的數(shù)量,效率就了。研磨速度一般在10-150米/分。研磨速度過(guò)高,會(huì)引起工件表面焦黃;熱膨脹嚴(yán)重使薄件平面變形,影響尺寸;摩擦過(guò)熱降低工件硬









