- 企業類型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產地:德國
- 電壓:380
- 功率:4kw
- 適用物料:粉體漿料
- 進料粒度:<100 mm
- 出料粒度:10 um
- 設備尺寸:450*350*750 mm
- 轉速:0-14000
UV固化有機硅制備納米/微米和15000轉高速乳化機 ,UV固化有機硅制備納米/微米高速乳化機 。有機硅制備納米/微米微球高速乳化機 有機硅烷水解 加堿進行縮合
有機硅微米或納米粒子的制備主要是通過將有機硅烷水解完全后加堿進行縮合,進 而生成納米或微米正球型粒子,再經過濾、烘干完成制備。球形粒子的粒徑及其分布只能 通過硅烷與水的比例以及堿的加入比例進行間接調整,波動很大,尤其批次生產量較大的時 候,不利于穩定控制。
1.將具有UV固化特征的可UV 固化有機硅與合適的光引發劑混合均勻作為油相,
2.將含有隔離劑的水混合均 勻作為水相,將 油相加入到水相中進行乳化剪切,乳液至期望的粒徑和分布(目標粒徑)后,
3.引入UV(紫外 光)對乳液進行照射固化
4.再經過濾、烘干或直接氣流、噴霧干燥制得有機硅納米/微米粒子;

影響分散乳化結果的因素有以下幾點
1 乳化頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)
2 乳化頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 乳化頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,chao細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不neng zai好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
chaoX速分散均質乳化機的高的轉速和剪切率對于獲得chao細微懸浮液是重要的。根據一些行業te殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎上又開發出ERX2000chaoX速剪切乳化機機。其剪切速率可以chao過200.00 rpm,轉子的速度可以da到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合研制的電機可以使粒徑范圍小到納米。剪切力更強,乳液的粒經分布更窄。由于能量密度ji gao,無需其他輔助分散設備,可以da到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.
chaoX速分散乳化機是、kuai速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度da到微米數量時,甚至納米時,體系可被認為均質。當外部能量輸入時,兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子gao速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下,shun間均勻精細的分散乳化,經過高頻管線式高剪切分散均質乳化機的循環往復,#終得到穩定的XX產品。
標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 | |
型號 | l/h | rpm | m/s | kW | |
ERX 2000/4 | 300 | 20000 | 66 | 5.5 | DN25/DN15 |
ERX 2000/5 | 1,500 | 15,750 | 66 | 15 | DN40 /DN 32 |
ERX 2000/10 | 5,000 | 10,950 | 66 | 30 | DN50 / DN50 |
ERX 2000/20 | 10,000 | 7,300 | 66 | 55 | DN80 /DN 65 |
ERX 2000/30 | 30,000 | 4,000 | 66 | 90 | DN150 /DN 125 |
ERX 2000/50 | 50,000 | 3,000 | 66 | 160 | DN200 /DN 150 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產品的要求。

UV固化有機硅制備納米/微米和15000轉高速乳化機 ,UV固化有機硅制備納米/微米高速乳化機 。有機硅制備納米/微米微球高速乳化機 有機硅烷水解 加堿進行縮合






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