- 品牌/商標(biāo)：NANOVEA
- 企業(yè)類型：貿(mào)易商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：USA
產(chǎn)品簡介：
P3型全自動粗糙度測量儀是一款非接觸式粗糙度測量儀，采用國際的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試，符合國際標(biāo)準(zhǔn)ISO25178，用于取代傳統(tǒng)的接觸式探針型粗糙度測量儀。測量范圍廣，可測透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒等任意樣品，不收材料形狀及顏色的限制。
產(chǎn)品特性:
1.測量具有非破壞性：采用白光共聚焦技術(shù)，可獲得納米級分辨率
2.測量范圍大：15mm×15mm，無需進(jìn)行圖像拼接
3.可測樣品的坡度：87oC
4.測量范圍廣：可測平面、曲面、球面、透明、半透明、高曲折度、拋光、粗糙樣品
5.不受環(huán)境光的影響
6.不受樣品反射率與形狀的影響
7.操作簡單：樣品無需特殊處理優(yōu)于傳統(tǒng)的探針技術(shù)與干涉技術(shù)形貌儀
主要技術(shù)參數(shù)：
1，掃描范圍：1×1，2×2，3×3，4×4，5×5，10×10，15×15（mm）
2，掃描步長：1×1，2×2，5×5（μm）
3，Z方向測量范圍：300μm
4，Z方向測量分辨率：8nm
5，Z方向測量：60nm
6，橫向光學(xué)分辨率：2.6μm
產(chǎn)品應(yīng)用：
MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)
