立體式速納米膠體磨，速膠體磨，21000轉膠體磨，德國速膠體磨  比普通的膠體磨的速度4-5，研磨效果好，轉速可以21000RPM。

IKN膠體磨具有設計緊湊、實用新型，外形美觀、密封良好、性能穩定、操作方便、裝修簡單、經久耐用、適應范圍廣、生產效益高等特點、是處理精細物料理想的加工設備。

它綜合了均質機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有的微粉碎、分散乳化、均質、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均質度達90%以上，是微粒加工的理想設備。

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點：

1 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，細齒，約細齒效果越好）

3  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

4 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素： 

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.3mm  

立體式速納米膠體磨，速膠體磨，21000轉膠體磨，德國速膠體磨  比普通的膠體磨的速度4-5，研磨效果好，轉速可以21000RPM。

膠體磨的基本原理：
　　膠體磨在電動機的轉動下物料從處直接進入高剪切破碎區，通過一種粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒破碎，然后吸 入剪切粉碎區，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物 料重新壓入精磨區進行研磨破碎，精磨區分三級，越向外延伸磨片越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一 級流體的方向速度發生變化，并且受到每分鐘上次的剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區的上次的剪切、研磨粉碎之 后，從而產生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的小細度可達0.5um。

通過相對連動的定齒與動齒之間，使物料受到強大的剪切力，磨擦力及高頻振動等作用，地被粉碎、乳化、均質、混合，從而獲得滿意的精細加工的產品。

線速度很高，剪切間隙小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

上海IKN膠體磨與國nei膠體磨的性能比較：

一、轉速和剪切速率：

IKN膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以15000轉

F=23/0.7X1000=32857S-1

F=40/0.7/X1000=57142S-1

國nei膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440S-1

通過轉速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍。

二、膠體磨頭和間距：

IKN膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續粉液混合模塊，間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工。

國nei膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差。

三、機械密封：

IKN膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至，可24小時不停運轉。

國nei膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀。

四、清洗：

IKN膠體磨，立式，皮帶驅動，易于維護，可保護馬達及齒輪箱，損壞,合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線功能，無需拆卸，機器設計，立式結構合流體原理，清洗更簡便。

國nei膠體磨，臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養復雜，通常情況，需要拆卸機器進行清洗。

立體式速納米膠體磨，速膠體磨，21000轉膠體磨，德國速膠體磨  比普通的膠體磨的速度4-5，研磨效果好，轉速可以21000RPM。