鄭科探KT--Z1650PVD小型金屬濺射儀水冷式濺射源，可實(shí)現(xiàn)高功率持續(xù)運(yùn)行，有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。該款小型磁控濺射儀通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

小型金屬濺射儀：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛倫茲力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)。

小型金屬濺射儀：為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對(duì)于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對(duì)試樣表面進(jìn)行清潔，之后試樣復(fù)原，再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。

小型金屬濺射儀技術(shù)參數(shù)；