該設(shè)備為電阻、電子束或電阻電子束復(fù)合鍍膜系統(tǒng)，同時兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜，過流部件均采用SUS304制造，真空系統(tǒng)后置，標(biāo)準(zhǔn)配置分子泵系統(tǒng)，標(biāo)配工業(yè)級人機界面和西門子PLC系統(tǒng)，手動和自動模式自由切換，能夠滿足工業(yè)客戶小批量生產(chǎn)和科研院所客戶科研實驗的需求。該系列設(shè)備不提供全手動操作控制系統(tǒng)。

形式：箱式一體機，立式前開門，蒸發(fā)室和抽氣室為整體焊接式，一體機系統(tǒng)。

真空系統(tǒng)：極限真空5X10^-4Pa，主泵為復(fù)合分子泵。

真空測量：配三路數(shù)字復(fù)合真空計，均采用安全防爆金屬測量規(guī)。

工件架系統(tǒng)。客戶需求定制，配置可擴展4英寸、3英寸、2英寸基片的專用互換工裝，轉(zhuǎn)速3～30rpm變頻可調(diào)，工件盤為球形和行星工件盤可選，行星工件盤成本較高。

烘烤系統(tǒng)。不銹鋼鎧裝加熱器匹配數(shù)字功率控制器和PID控制模塊，烘烤溫度300℃，溫控精度1℃，過沖不超過2℃。

電子束蒸發(fā)源。E型電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)(E型)1套，主體有屏蔽罩，單槍、單電源、單掃描，配置獨立高壓控制柜。

坩堝：坩堝1套，電動轉(zhuǎn)位和點動轉(zhuǎn)位，配置無氧銅坩堝和石墨坩堝各一套。

電阻蒸發(fā)源：2套電阻蒸發(fā)源。（選配）

膜厚測試系統(tǒng)。配瑞士inficon石英膜厚在線測量系統(tǒng)， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探頭。

離子源輔助沉積系統(tǒng):一套（選配離子源或高壓離子轟擊系統(tǒng)）

控制系統(tǒng)：成熟可靠的真空鍍膜控制系統(tǒng)，工業(yè)級10英寸觸摸屏和西門子PLC，能夠?qū)崿F(xiàn)抽真空、工轉(zhuǎn)烘烤、自動充氣、自動鍍膜、自動冷卻放氣等鍍膜生產(chǎn)流程；支持半自動和手動等鍍膜操作方式。水、電、氣路有故障自動報警和保護系統(tǒng)，采用聲光報警。

    說明：根據(jù)用戶要求，公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā)，共享知識產(chǎn)權(quán)，公司致力于工藝與設(shè)備完美匹配。