巖石納米 煤球納米 混泥土納米 分辨率可達500nm。
X射線斷層掃描儀 巖石掃描納米 混泥土斷層掃描納米 煤柱斷層掃描納米 納米焦點三維掃描系統 x射線顯微鏡 X射線三維顯微鏡 全巖心三維掃描儀 X射線高分辨工業
納米作為新一代的高分辨率透視檢測技術平臺，采用了雙探測器設計方案（如下圖所示），分別是率平板探測器和率光耦探測器。用戶可以根據不同的測樣需求切換兩套光路系統，可以利用平板探測器對樣品進行大范圍整體觀察，視野可達130mm，找到特征目標區域，然后利用光耦探測器對目標區域進行高分辨成像，且具有多種不同放大倍率可供選擇.
平板探測器依據普通光學投影放大原理，如下圖，樣品的幾何放大倍率取決于光源到樣品和探測器相對位置距離的比例關系。
在普通顯微系統上要獲得高的放大倍率，須要使樣品無限靠近光源，這對于較大樣品掃描時產生的旋轉半徑，以及進行原位裝置搭載實驗的用戶，具有很大的局限性。無法滿足他們希望獲得高放大倍率的需求。
光耦探測器依據二級光學放大原理，如下圖，基于投影放大原理實現的光學放大，再通過一系列光學物鏡，形成的二級光學放大，實現樣品無需靠近光源，即可滿足用戶獲得高放大倍率的需求。
設備分辨率500nm
樣品尺寸 300nm
檢測樣品重量 2kg/15kg可選
多種掃描成像模式 旋轉掃描，螺旋掃描 ，偏置掃描 ，角度掃描，視野掃描等
微焦x涉嫌管電壓 90kv/150kv/190kv
另有多款60kv-300kv(可選)
雙探測器
高分辨物鏡耦合探測器 鏡頭 4倍 10倍 20倍，40倍 可選
分辨率2048*2048 16bit 熱電冷卻-55°
平板探測器 250*200mm/130*130mm
克拉克（中國）有限公司 提供
